科民ALD實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量依(Ir)單質(zhì)沉積
發(fā)布時(shí)間:
2019/01/10
金屬銥單質(zhì)在光學(xué)器件、催化等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前果?？泼耠娮永肞E-ALD設(shè)備攻克了銥源前驅(qū)體不易擴(kuò)散等難點(diǎn)，成功實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量單質(zhì)銥SEM結(jié)果顯示(Ir）鍍膜均勻,無空隙，完全滿足高端用戶的需求。
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SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD設(shè)備
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2025-03-11
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